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文献
J-GLOBAL ID：201802241055026145
整理番号：18A0012760
材料加工のための旋回正方形容量性RF放電プラズマスパッタリングソースの性能
Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing
HOSSAIN Md. Amzad
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
HOSSAIN Md. Amzad
(Jessore Univ. Sci. and Technol., Jessore, BGD)
,
OHTSU Yasunori
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
TABARU Tatsuo
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
資料名：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 37 号： 6 ページ： 1663-1677 発行年： 2017年11月
JST資料番号： H0836A ISSN： 0272-4324 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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