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文献
J-GLOBAL ID：201802241092627873
整理番号：18A1591527
バイアス基板上のホットターゲットマグネトロンスパッタリングによるCr膜の堆積【JST・京大機械翻訳】
Deposition of Cr films by hot target magnetron sputtering on biased substrates
Sidelev Dmitrii V.
(Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634050, Russia)
,
Bestetti Massimiliano
(Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634050, Russia)
,
Bestetti Massimiliano
(Politecnico di Milano, Department of Chemistry, Materials and Chemical Engineering “Giulio Natta”, Milano, Italy)
,
Bleykher Galina A.
(Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634050, Russia)
,
Krivobokov Valery P.
(Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634050, Russia)
,
Grudinin Vladislav A.
(Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634050, Russia)
,
Franz Silvia
(Politecnico di Milano, Department of Chemistry, Materials and Chemical Engineering “Giulio Natta”, Milano, Italy)
,
Vicenzo Antonello
(Politecnico di Milano, Department of Chemistry, Materials and Chemical Engineering “Giulio Natta”, Milano, Italy)
,
Shanenkova Yuliya L.
(Tomsk Polytechnic University, Lenin Avenue 2a, Tomsk 634050, Russia)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 350 ページ： 560-568 発行年： 2018年
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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