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文献
J-GLOBAL ID：201802241821944925
整理番号：18A0511628
Si基板と影響基板の熱電輸送特性へのFe_2SiO_4薄膜の形成【Powered by NICT】
Formation of Fe2SiO4 thin films on Si substrates and influence of substrate to its thermoelectric transport properties
Choi Jeongyong
(Department of Physics and Energy Harvest Storage Research Center, University of Ulsan, Ulsan 44610, South Korea)
,
Nguyen Van Quang
(Department of Physics and Energy Harvest Storage Research Center, University of Ulsan, Ulsan 44610, South Korea)
,
Duong Van Thiet
(Department of Physics and Energy Harvest Storage Research Center, University of Ulsan, Ulsan 44610, South Korea)
,
Shin Yooleemi
(Department of Physics and Energy Harvest Storage Research Center, University of Ulsan, Ulsan 44610, South Korea)
,
Duong Anh Tuan
(Department of Physics and Energy Harvest Storage Research Center, University of Ulsan, Ulsan 44610, South Korea)
,
Cho Sunglae
(Department of Physics and Energy Harvest Storage Research Center, University of Ulsan, Ulsan 44610, South Korea)
資料名：
Physica B. Condensed Matter
(Physica B. Condensed Matter)
巻： 532 ページ： 80-83 発行年： 2018年
JST資料番号： H0676B ISSN： 0921-4526 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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