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文献
J-GLOBAL ID：201802242500843284
整理番号：18A0857958
0.8および20A g(-1)におけるリチオ化および脱リチオ化中のSi/Geコア/シェルナノワイヤヘテロ構造の劣化【JST・京大機械翻訳】
Degradation of Si/Ge core/shell nanowire heterostructures during lithiation and delithiation at 0.8 and 20 A g-1
Kim Dongheun
(Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, NM 87545, USA. jyoo@lanl.gov)
,
Li Nan
,
Sheehan Chris J.
,
Yoo Jinkyoung
資料名：
Nanoscale
(Nanoscale)
巻： 10 号： 16 ページ： 7343-7351 発行年： 2018年
JST資料番号： W2323A ISSN： 2040-3364 CODEN： NANOHL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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