文献
J-GLOBAL ID:201802242797958172
整理番号:18A1900169
PI粗さに及ぼすプラズマの影響【JST・京大機械翻訳】
Plasma Impact on PI Roughness
著者 (3件):
Cheng Qiang
(School of Materials Science and engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai, China)
,
Gao Liming
(School of Materials Science and engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai, China)
,
Zhang Li
(Technical V.P. Jiangyin Changdian Advanced Packing, Jiangyin, China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2018
号:
ICEPT
ページ:
860-862
発行年:
2018年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)