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文献
J-GLOBAL ID：201802243256993683
整理番号：18A1262079
ナノインプリントテンプレートのための有機/無機二層リフトオフを用いた画像反転,トポグラフィーおよび特徴サイズ操作【JST・京大機械翻訳】
Image inverting, topography and feature size manipulation using organic/inorganic bi-layer lift-off for nanoimprint template
Si Shuhao
(Technische Universitaet Ilmenau, IMN MacroNano, Micromechanical Systems Group, Germany)
,
Hoffmann Martin
(Ruhr-Universitaet Bochum, Chair Microsystems Technology, Germany)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 197 ページ： 39-44 発行年： 2018年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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