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J-GLOBAL ID:201802244183707307   整理番号:18A1861545

ルチルおよび溶融シリカ基板上にスピンコートしたTiO_2薄膜の汚染【JST・京大機械翻訳】

Contamination of TiO2 thin films spin coated on rutile and fused silica substrates
著者 (8件):
Kabir I.I.
(School of Materials Science and Engineering, UNSW Sydney, Sydney, NSW 2052, Australia)
Sheppard L.R.
(School of Computing, Engineering & Mathematics, Western Sydney University, Locked Bag 1797, Penrith, NSW 2751, Australia)
Liu R.
(School of Computing, Engineering & Mathematics, Western Sydney University, Locked Bag 1797, Penrith, NSW 2751, Australia)
Yao Y.
(Mark Wainwright Analytical Centre, UNSW Sydney, Sydney, NSW 2052, Australia)
Zhu Q.
(Mark Wainwright Analytical Centre, UNSW Sydney, Sydney, NSW 2052, Australia)
Chen W.-F.
(School of Materials Science and Engineering, UNSW Sydney, Sydney, NSW 2052, Australia)
Koshy P.
(School of Materials Science and Engineering, UNSW Sydney, Sydney, NSW 2052, Australia)
Sorrell C.C.
(School of Materials Science and Engineering, UNSW Sydney, Sydney, NSW 2052, Australia)

資料名:
Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)

巻: 354  ページ: 369-382  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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