文献
J-GLOBAL ID:201802244442889273
整理番号:18A0631481
プラズマイオン注入:低コスト交差指型背面接触シリコンヘテロ接合太陽電池の製作のための有望な方法
Plasma Ion Implantation: a Promising Method for Fabricating the Low Cost Interdigitated Back Contact Silicon Heterojunction Solar Cell
著者 (7件):
TU Huynh Thi Cam
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
KOYAMA Koichi
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
KOYAMA Koichi
(ULVAC, Inc., Kanagawa)
,
YAMAGUCHI Noboru
(ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN)
,
SUZUKI Hideo
(ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN)
,
OHDAIRA Keisuke
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MATSUMURA Hideki
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名:
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻:
65th
ページ:
ROMBUNNO.18a-D101-4
発行年:
2018年03月05日
JST資料番号:
Y0054B
ISSN:
2436-7613
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)