文献
J-GLOBAL ID:201802244696203050
整理番号:18A1777767
シリコン系分子接合の電子輸送におけるポリオキソメタラートの分子署名【JST・京大機械翻訳】
Molecular signature of polyoxometalates in electron transport of silicon-based molecular junctions
著者 (8件):
Laurans Maxime
(Sorbonne Universite, CNRS, Institut Parisien de Chimie Moleculaire, IPCM, 4 Place Jussieu, F-75005 Paris, France. anna.proust@sorbonne-universite.fr)
,
Dalla Francesca Kevin
,
Volatron Florence
,
Izzet Guillaume
,
Guerin David
,
Vuillaume Dominique
,
Lenfant Stephane
,
Proust Anna
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
10
号:
36
ページ:
17156-17165
発行年:
2018年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)