文献
J-GLOBAL ID:201802245454083673
整理番号:18A0426079
掃引とパルスプログラミングによるTiN/Ti/HfO_2/W抵抗スイッチング素子のマルチレベル能力の研究【Powered by NICT】
Investigation of the multilevel capability of TiN/Ti/HfO2/W resistive switching devices by sweep and pulse programming
著者 (3件):
Poblador S.
(Institut de Microelectronica de Barcelona, IMB-CNM (CSIC), Campus UAB, 08193 Bellaterra, Spain)
,
Gonzalez M.B.
(Institut de Microelectronica de Barcelona, IMB-CNM (CSIC), Campus UAB, 08193 Bellaterra, Spain)
,
Campabadal F.
(Institut de Microelectronica de Barcelona, IMB-CNM (CSIC), Campus UAB, 08193 Bellaterra, Spain)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
187-188
ページ:
148-153
発行年:
2018年
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)