文献
J-GLOBAL ID:201802248042918164
整理番号:18A0385039
TiO_2膜の反応性Arイオンビームスパッタ蒸着膜の性質に及ぼすプロセスパラメータの影響【Powered by NICT】
Reactive Ar ion beam sputter deposition of TiO2 films: Influence of process parameters on film properties
著者 (5件):
Bundesmann C.
(Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e.V., Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany)
,
Lautenschlaeger T.
(Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e.V., Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany)
,
Thelander E.
(Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e.V., Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany)
,
Spemann D.
(Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e.V., Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany)
,
Spemann D.
(Universitaet Leipzig, Fakultaet fuer Physik und Geowissenschaften, Institut fuer Experimentelle Physik II, Linnestrasse 5, 04103 Leipzig, Germany)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
395
ページ:
17-23
発行年:
2017年
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)