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文献
J-GLOBAL ID：201802248099220640
整理番号：18A1300247
高移動度薄膜トランジスタのためのInZnOの大気圧プラズマ増強空間ALD【JST・京大機械翻訳】
Atmospheric plasma-enhanced spatial-ALD of InZnO for high mobility thin film transistors
Illiberi Andrea
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Katsouras Ilias
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Gazibegovic Sasa
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Cobb Brian
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Nekovic Elida
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
van Boekel Willem
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Frijters Corne
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Maas Joris
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Roozeboom Fred
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands and Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
,
Creyghton Yves
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Poodt Paul
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands)
,
Gelinck Gerwin
(Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5600 AE Eindhoven, The Netherlands and Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 36 号： 4 ページ： 04F401-04F401-7 発行年： 2018年
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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