文献
J-GLOBAL ID:201802249565597897
整理番号:18A1192139
強いレーザ照射下の極端紫外線(EUV)リソグラフィーにおける関連の多価すずイオン発生のための希薄なデブリを含まないスズ源としての(TMT)_nクラスタ【JST・京大機械翻訳】
(TMT)n clusters as dilute debris-free tin source for generation of multiply charged tin ions of relevance in extreme ultraviolet (EUV) lithography, under intense laser irradiation
著者 (3件):
Sharma Pramod
(Chemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai, 400 085, India)
,
Das Soumitra
(Chemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai, 400 085, India)
,
Vatsa Rajesh K.
(Chemistry Division, Bhabha Atomic Research Centre, Mumbai, 400 085, India)
資料名:
Rapid Communications in Mass Spectrometry
(Rapid Communications in Mass Spectrometry)
巻:
32
号:
14
ページ:
1135-1140
発行年:
2018年
JST資料番号:
T0695A
ISSN:
0951-4198
CODEN:
RCMSEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)