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文献
J-GLOBAL ID：201802250453803416
整理番号：18A1066317
加圧水素ガス下のその場シンクロトロンX線全散乱セットアップの開発【JST・京大機械翻訳】
Development of an in situ synchrotron X-ray total scattering setup under pressurized hydrogen gas
Sakaki Kouji
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki305-8565, Japan)
,
Kim Hyunjeong
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki305-8565, Japan)
,
Machida Akihiko
(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
,
Watanuki Tetsu
(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
,
Katayama Yoshinori
(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
,
Nakamura Yumiko
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki305-8565, Japan)
資料名：
Journal of Applied Crystallography
(Journal of Applied Crystallography)
巻： 51 号： 3 ページ： 796-801 発行年： 2018年
JST資料番号： D0631A ISSN： 0021-8898 CODEN： JACGAR 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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