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文献
J-GLOBAL ID:201802250453803416   整理番号:18A1066317

加圧水素ガス下のその場シンクロトロンX線全散乱セットアップの開発【JST・京大機械翻訳】

Development of an in situ synchrotron X-ray total scattering setup under pressurized hydrogen gas
著者 (6件):
Sakaki Kouji
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki305-8565, Japan)
Kim Hyunjeong
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki305-8565, Japan)
Machida Akihiko
(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
Watanuki Tetsu
(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
Katayama Yoshinori
(National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
Nakamura Yumiko
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki305-8565, Japan)

資料名:
Journal of Applied Crystallography  (Journal of Applied Crystallography)

巻: 51  号:ページ: 796-801  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0631A  ISSN: 0021-8898  CODEN: JACGAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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