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文献
J-GLOBAL ID:201802254672653876   整理番号:18A0620379

高磁場での磁化率コントラストを用いた脳微細構造の研究【Powered by NICT】

Studying brain microstructure with magnetic susceptibility contrast at high-field
著者 (1件):
Duyn Jeff H.
(Advanced MRI Section, Laboratory of Functional and Molecular Imaging, National Institutes of Neurological Disorders and Stroke, National Institutes of Health, Bethesda, MD 20892, USA)

資料名:
NeuroImage  (NeuroImage)

巻: 168  ページ: 152-161  発行年: 2018年 
JST資料番号: W3139A  ISSN: 1053-8119  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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