文献
J-GLOBAL ID:201802254672653876
整理番号:18A0620379
高磁場での磁化率コントラストを用いた脳微細構造の研究【Powered by NICT】
Studying brain microstructure with magnetic susceptibility contrast at high-field
著者 (1件):
Duyn Jeff H.
(Advanced MRI Section, Laboratory of Functional and Molecular Imaging, National Institutes of Neurological Disorders and Stroke, National Institutes of Health, Bethesda, MD 20892, USA)
資料名:
NeuroImage
(NeuroImage)
巻:
168
ページ:
152-161
発行年:
2018年
JST資料番号:
W3139A
ISSN:
1053-8119
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)