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文献
J-GLOBAL ID：201802256321468087
整理番号：18A1758424
レーザ照射を用いたレジスト剥離現象の時間分解解析
Time-resolved Analysis of Resist Stripping Phenomenon Using Laser Irradiation
Kamimura Tomosumi
(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)
,
Umeda Yuji
(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)
,
Kuramae Hiroyuki
(Department of Robotics, Osaka Institute of Technology)
,
Nuno Kosuke
(Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology)
,
Nakamura Ryosuke
(Science & Technology Entrepreneurship Laboratory, Osaka University)
,
Horibe Hideo
(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 31 号： 3 ページ： 413-418(J-STAGE) 発行年： 2018年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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