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文献
J-GLOBAL ID：201802256684256674
整理番号：18A0239875
パターン化Au基板上の成長したままのCu_2O薄膜の電着のHall移動度【Powered by NICT】
Hall Mobility of As-Grown Cu2O Thin Films Obtained Via Electrodeposition on Patterned Au Substrates
Aggarwal Garima
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai 400076, India)
,
Das Chandan
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai 400076, India)
,
Agarwal Sumanshu
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai 400076, India)
,
Maurya Sandeep K.
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai 400076, India)
,
Nair Pradeep R.
(Department of Electrical Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai 400076, India)
,
Balasubramaniam K.R.
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai 400076, India)
資料名：
Physica Status Solidi. Rapid Research Letters
(Physica Status Solidi. Rapid Research Letters)
巻： 12 号： 1 ページ： ROMBUNNO.201700312 発行年： 2018年
JST資料番号： W1880A ISSN： 1862-6254 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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