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文献
J-GLOBAL ID：201802258437595853
整理番号：18A1790701
分子ビームエピタクシー装置を用いたスズ取り込みによるCu2ZnSnS4におけるCu2-xS形成の抑制
Suppression of Cu2-xS formation in Cu2ZnSnS4 by tin incorporation using molecular beam epitaxy system
NISHIDA Genki
(National Inst. of Technol., Nagaoka Coll., Niigata, JPN)
,
MURAYAMA Masanari
(National Inst. of Technol., Nagaoka Coll., Niigata, JPN)
,
TAKEUCHI Akiko
(National Inst. of Technol., Nagaoka Coll., Niigata, JPN)
,
SHIMAMUNE Yosuke
(National Inst. of Technol., Nagaoka Coll., Niigata, JPN)
,
JIMBO Kazuo
(National Inst. of Technol., Nagaoka Coll., Niigata, JPN)
,
KATAGIRI Hironori
(National Inst. of Technol., Nagaoka Coll., Niigata, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 8S3 ページ： 08RC03.1-08RC03.4 発行年： 2018年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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