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文献
J-GLOBAL ID：201802258976576890
整理番号：18A0632163
水素終端ダイヤモンド表面上のSiO2薄膜が二次元正孔ガスに及ぼす影響
矢部太一
(早稲田大 理工学術院)
,
工藤拓也
(早稲田大 理工学術院)
,
大井信敬
(早稲田大 理工学術院)
,
大久保智
(早稲田大 理工学術院)
,
堀川清貴
(早稲田大 理工学術院)
,
天野勝太郎
(早稲田大 理工学術院)
,
日出幸昌邦
(早稲田大 理工学術院)
,
露崎活人
(早稲田大 理工学術院)
,
蔭浦泰資
(早稲田大 理工学術院)
,
河野省三
(早稲田大 理工学術院)
,
平岩篤
(早稲田大 理工学術院)
,
川原田洋
(早稲田大 理工学術院)
,
川原田洋
(早大 材研)
資料名：
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 65th ページ： ROMBUNNO.18p-F206-5 発行年： 2018年03月05日
JST資料番号： Y0054B ISSN： 2758-4704 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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