文献
J-GLOBAL ID:201802259137483433
整理番号:18A0118346
単結晶シリコン薄膜転写技術によるプラスチック上CMOS回路動作
Single-crystalline Silicon Layer Transfer Technique Utilizing Meniscus Force and Its Application to CMOS Device Fabrication on Plastic Substrate
著者 (1件):
東清一郎
(広島大 大学院先端物質科学研究科)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
117
号:
334(OME2017 35-48)
ページ:
53-57
発行年:
2017年11月24日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)