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文献
J-GLOBAL ID：201802259205366958
整理番号：18A0424138
イオン源支援マグネトロンスパッタリングによるナノ結晶Al_2O_3膜の低温蒸着【Powered by NICT】
Low-temperature deposition of nanocrystalline Al2O3 films by ion source-assisted magnetron sputtering
Ding Ji Cheng
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan, 609-735, South Korea)
,
Zhang Teng Fei
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan, 609-735, South Korea)
,
Mane Rajaram S.
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan, 609-735, South Korea)
,
Kim Kwang-Ho
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan, 609-735, South Korea)
,
Kang Myung Chang
(Global Frontier R&D Center for Hybrid Interface Materials, Pusan National University, Busan, 609-735, South Korea)
,
Zou Chang Wei
(School of Electromechanical Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 510006, China)
,
Wang Qi Min
(School of Electromechanical Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou, 510006, China)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 149 ページ： 284-290 発行年： 2018年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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