文献
J-GLOBAL ID:201802259731837882
整理番号:18A0377098
金属酸化物混合粉末ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリングによる金属ドープSiO2薄膜の作製
Preparation of metal doped SiO2 films by magnetron sputtering deposition using metal oxide mixture powder target
著者 (6件):
Kawasaki H.
(National Institute of Technology, Sasebo College)
,
Ohshima T.
(National Institute of Technology, Sasebo College)
,
Yagyu Y.
(National Institute of Technology, Sasebo College)
,
Ihara T.
(National Institute of Technology, Sasebo College)
,
Shinohara M.
(National Institute of Technology, Sasebo College)
,
Suda Y.
(National Institute of Technology, Ishikawa College)
資料名:
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻:
43
号:
1
ページ:
27-30(J-STAGE)
発行年:
2018年
JST資料番号:
L4468A
ISSN:
1382-3469
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)