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文献
J-GLOBAL ID：201802260536455670
整理番号：18A0537142
ベータPVDF膜マイクロパターニングに及ぼすintermitted RIEエッチングの影響【Powered by NICT】
Effect of intermitted RIE etching on the beta-PVDF film micro patterning
Miki Sugii Ryota Hirofumi
(Department of Systems Engineering, Wakayama University, 930 Sakaedani, Japan)
,
Tsuchitani Shigeki
(Department of Systems Engineering, Wakayama University, 930 Sakaedani, Japan)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017 号： MHS ページ： 1-6 発行年： 2017年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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