文献
J-GLOBAL ID:201802260965539107
整理番号:18A0312258
ケイ素埋込みNi(110)の第一原理研究
First-Principles Study of Silicon-Embedded Ni(110)
著者 (2件):
Fukuda T.
(Department of Physical Electronics and Informatics, Graduate School of Engineering, Osaka City University)
,
Kishida I.
(Department of Mechanical and Physical Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University)
資料名:
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)
(e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻:
15
ページ:
96-101(J-STAGE)
発行年:
2017年
JST資料番号:
U0016A
ISSN:
1348-0391
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)