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文献
J-GLOBAL ID：201802262588738079
整理番号：18A0795168
外部加熱の支援による誘電体バリア放電におけるO_2プラズマで処理したTiO_2薄膜表面の特性【JST・京大機械翻訳】
Characteristics of TiO2 thin films surfaces treated by O2 plasma in dielectric barrier discharge with the assistance of external heating
Kawakami Retsuo
(Graduate School of Technology, Industrial and Social Sciences, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Niibe Masahito
(Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo, Kamigori, Hyogo, 678-1205, Japan)
,
Nakano Yoshitaka
(Chubu University, Kasugai, Aichi, 487-8501, Japan)
,
Araki Yuma
(Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo, Kamigori, Hyogo, 678-1205, Japan)
,
Yoshitani Yuki
(Graduate School of Technology, Industrial and Social Sciences, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Azuma Chisato
(Graduate School of Technology, Industrial and Social Sciences, Tokushima University, Tokushima, 770-8506, Japan)
,
Mukai Takashi
(Nichia Corporation, Anan, Tokushima, 774-0044, Japan)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 152 ページ： 265-271 発行年： 2018年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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