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文献
J-GLOBAL ID：201802264454610902
整理番号：18A1608887
イオンビームスパッタ蒸着により成長させたエピタキシャルSrTiO_3薄膜の厚み依存歪発展【JST・京大機械翻訳】
Thickness-Dependent Strain Evolution of Epitaxial SrTiO3 Thin Films Grown by Ion Beam Sputter Deposition
Panomsuwan Gasidit
(Department of Materials Engineering, Faculty of Engineering, Kasetsart University, 50 Phaholyothin Road, Chatuchak, Bangkok, 10900, Thailand)
,
Saito Nagahiro
(Department of Chemical System Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya, 464-8603, Japan)
資料名：
Crystal Research and Technology
(Crystal Research and Technology)
巻： 53 号： 8 ページ： e1700211 発行年： 2018年
JST資料番号： B0738A ISSN： 0232-1300 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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