文献
J-GLOBAL ID:201802264646586513
整理番号:18A1044929
200mm薄膜SOI CMPのためのマルチゾーンポーランドヘッドの適用による高精度プロファイル制御の達成【JST・京大機械翻訳】
Achieving highly accurate profile control by applying a multi-zone polish head for 200mm thin-film SOI CMP
著者 (3件):
Liu Mike
(Applied Global Services, Applied Materials, Xi’an, Shaanxi, China)
,
Leighton Jamie
(Applied Global Services, Applied Materials, Santa Clara, California, USA)
,
Rosa Mike
(Applied Global Services, Applied Materials, Santa Clara, California, USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2018
号:
CSTIC
ページ:
1-3
発行年:
2018年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)