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文献
J-GLOBAL ID：201802265326074297
整理番号：18A0239605
室温マルチフェロイックGa_xFe_2-xO_3エピタキシャル薄膜における強誘電性と磁気的性質【Powered by NICT】
Ferroelectric and Magnetic Properties in Room-Temperature Multiferroic GaxFe2- xO3 Epitaxial Thin Films
Katayama Tsukasa
(Laboratory for Materials and Structures, Tokyo Institute of Technology, 4259-J2-19, Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama, 226-8503, Japan)
,
Yasui Shintaro
(Laboratory for Materials and Structures, Tokyo Institute of Technology, 4259-J2-19, Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama, 226-8503, Japan)
,
Hamasaki Yosuke
(Laboratory for Materials and Structures, Tokyo Institute of Technology, 4259-J2-19, Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama, 226-8503, Japan)
,
Shiraishi Takahisa
(Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1, Katahira, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan)
,
Akama Akihiro
(Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1, Katahira, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan)
,
Kiguchi Takenori
(Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1, Katahira, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan)
,
Itoh Mitsuru
(Laboratory for Materials and Structures, Tokyo Institute of Technology, 4259-J2-19, Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama, 226-8503, Japan)
資料名：
Advanced Functional Materials
(Advanced Functional Materials)
巻： 28 号： 2 ページ： ROMBUNNO.201704789 発行年： 2018年
JST資料番号： W1336A ISSN： 1616-301X CODEN： AFMDC6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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