文献
J-GLOBAL ID:201802265900239512
整理番号:18A1044592
k-平均アルゴリズムを用いたレビュー-SEM画像解析:AM:先進的な計測学/DI:欠陥検査【JST・京大機械翻訳】
Review-SEM image analysis with K-means algorithm: AM: Advanced metrology/DI: Defect inspection
著者 (4件):
Halder Sandip
(Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001)
,
Cerbu Dorin
(Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001)
,
Saib Mohamed
(Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001)
,
Leray Philippe
(Lithography Process and Patterning Control, IMEC, Kapeldreef 75, Heverlee, Belgium 3001)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2018
号:
ASMC
ページ:
255-258
発行年:
2018年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)