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文献
J-GLOBAL ID:201802268007853028   整理番号:18A1737760

シリコンドープ酸化スズフレキシブル薄膜トランジスタの調製と特性【JST・京大機械翻訳】

Preparation and Properties of Flexible Thin Film Transistors with Si-incorporated SnO2 Active Layer
著者 (8件):
Zhang Jiandong
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Liu Xianzhe
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Zhang Xiaochen
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Li Xiaoqing
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Wang Lei
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Yao Rihui
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Ning Honglong
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
Peng Junbiao
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)

資料名:
Faguang Xuebao  (Faguang Xuebao)

巻: 39  号:ページ: 968-973  発行年: 2018年 
JST資料番号: W1380A  ISSN: 1000-7032  CODEN: FAXUEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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