文献
J-GLOBAL ID:201802268007853028
整理番号:18A1737760
シリコンドープ酸化スズフレキシブル薄膜トランジスタの調製と特性【JST・京大機械翻訳】
Preparation and Properties of Flexible Thin Film Transistors with Si-incorporated SnO2 Active Layer
著者 (8件):
Zhang Jiandong
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Liu Xianzhe
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Zhang Xiaochen
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Li Xiaoqing
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Wang Lei
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Yao Rihui
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Ning Honglong
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
,
Peng Junbiao
(華南理工大学 材料科学与工程学院,高分子光電材料与器件研究所,発光材料与器件国家重点実験室,广東 广州 510640)
資料名:
Faguang Xuebao
(Faguang Xuebao)
巻:
39
号:
7
ページ:
968-973
発行年:
2018年
JST資料番号:
W1380A
ISSN:
1000-7032
CODEN:
FAXUEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
中国語 (ZH)