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文献
J-GLOBAL ID：201802271303327906
整理番号：18A1641042
サブ50nm高アスペクト比金属ナノ構造の書換え可能な一段階パターン形成のための走査型ナノ溶接リソグラフィー【JST・京大機械翻訳】
Scanning Nanowelding Lithography for Rewritable One-Step Patterning of Sub-50 nm High-Aspect-Ratio Metal Nanostructures
Liu Guoqiang
(Laboratory for Advanced Interfacial Materials and Devices, Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Chen Lina
(Laboratory for Advanced Interfacial Materials and Devices, Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Liu Jin
(Department of Applied Physics, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Qiu Meng
(Department of Applied Physics, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Xie Zhuang
(School of Materials Science and Engineering, Sun Yat-sen University, Guangzhou, Guangdong, China)
,
Chang Jian
(Laboratory for Advanced Interfacial Materials and Devices, Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Zhang Yaokang
(Laboratory for Advanced Interfacial Materials and Devices, Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Li Peng
(Laboratory for Advanced Interfacial Materials and Devices, Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Lei Dang Yuan
(Department of Applied Physics, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
,
Zheng Zijian
(Laboratory for Advanced Interfacial Materials and Devices, Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
資料名：
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻： 30 号： 35 ページ： e1801772 発行年： 2018年
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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