文献
J-GLOBAL ID:201802272693930758
整理番号:18A1700586
希薄HF溶液を利用したHfN0.5の細いラインの横方向エッチング
Lateral etching of HfN0.5 narrow line utilizing diluted HF solution
著者 (4件):
DING Yizhe
(Tokyo Inst. of Technol.)
,
MAILIG Rengie Mark D.
(Tokyo Inst. of Technol.)
,
KUDOH Sohya
(Tokyo Inst. of Technol.)
,
OHMI Shun-ichiro
(Tokyo Inst. of Technol.)
資料名:
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻:
79th
ページ:
ROMBUNNO.21p-135-11
発行年:
2018年09月05日
JST資料番号:
Y0055B
ISSN:
2758-4704
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)