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文献
J-GLOBAL ID：201802273028916889
整理番号：18A1330572
リモート酸素プラズマによる酸化ガリウム/窒化ガリウム界面の低温形成と界面特性
Low-temperature formation of Ga-oxide/GaN interface with remote oxygen plasma and its interface properties
YAMAMOTO Taishi
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YAMAMOTO Taishi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
TAOKA Noriyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
OHTA Akio
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TRUYEN Nguyen Xuan
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TRUYEN Nguyen Xuan
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
YAMADA Hisashi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
TAKAHASHI Tokio
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
IKEDA Mitsuhisa
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
MAKIHARA Katsunori
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SHIMIZU Mitsuaki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
SHIMIZU Mitsuaki
(Nagoya Univ. Inst. of Materials and Systems for Sustainability (IMaSS), Nagoya, JPN)
,
MIYAZAKI Seiichi
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
MIYAZAKI Seiichi
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57 号： 6S2 ページ： 06JE01.1-06JE01.5 発行年： 2018年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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