文献
J-GLOBAL ID:201802275105034988
整理番号:18A1682682
リモートシランプラズマにおける粒子挙動とその膜成長への寄与【JST・京大機械翻訳】
Particle behavior and its contribution to film growth in a remote silane plasma
著者 (3件):
Kim Yeonwon
(Division of Marine Mechatronics, Mokpo National Maritime University, 91 Haeyangdaehak-ro, Mokpo-si 58628, Jeollanam-do, Korea)
,
Koga Kazunori
(Faculty of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, 744 Motooka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, Japan)
,
Shiratani Masaharu
(Faculty of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, 744 Motooka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, Japan)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
36
号:
5
ページ:
050601-050601-5
発行年:
2018年
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)