文献
J-GLOBAL ID:201802276587965276
整理番号:18A2024261
マスクレス作製技術を用いた神経インプラントのための高密度電気フィードスルーのための低温アプローチ【JST・京大機械翻訳】
Low temperature approach for high density electrical feedthroughs for neural implants using maskless fabrication techniques
著者 (5件):
Langenmair M.
(Department of Neurosurgery, University Clinic Freiburg, Germany)
,
Martens J.
(laboratory for biomedical micro technology, Albert-Ludwigs University Freiburg, Germany)
,
Gierthmuehlen M.
(Department of Neurosurgery, University Clinic Freiburg, Germany)
,
Plachta D. T. T.
(neuroloop GmbH, Freiburg, Germany)
,
Stieglitz T.
(laboratory for biomedical micro technology, Albert-Ludwigs University Freiburg, Germany)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2018
号:
EMBC
ページ:
2933-2936
発行年:
2018年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)