文献
J-GLOBAL ID:201802278971291372
整理番号:18A0181879
Friction and Tribochemical Wear Behaviors of Native Oxide Layer on Silicon at Nanoscale
著者 (6件):
CHEN Lei
(Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN)
,
XIAO Chen
(Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN)
,
HE Xin
(Pennsylvania State Univ., PA, USA)
,
YU Bingjun
(Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN)
,
KIM Seong H.
(Pennsylvania State Univ., PA, USA)
,
QIAN Linmao
(Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN)
資料名:
Tribology Letters
(Tribology Letters)
巻:
65
号:
4
ページ:
139,1-8
発行年:
2017年12月
JST資料番号:
W1933A
ISSN:
1023-8883
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)