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文献
J-GLOBAL ID：201802279460175339
整理番号：18A2043967
仮想的に全ポストエッチ残さを洗浄するために適応可能なカスタマイズされた化学組成【JST・京大機械翻訳】
Customized Chemical Compositions Adaptable for Cleaning Virtually all Post-Etch Residues
Cazes M.
(Technic France; 15 rue de la Montjoie, La plaine St Denis, F93212, France)
,
Pizzetti Christian
(Technic France; 15 rue de la Montjoie, La plaine St Denis, F93212, France)
,
Daviot Jerome
(Technic France; 15 rue de la Montjoie, La plaine St Denis, F93212, France)
,
Garnier Philippe
(ST Microelectronics Crolles2; 850 Rue Jean Monnet, Crolles, 38926, France)
,
Broussous Lucile
(STMicroelectronics; 860 Rue Jean Monnet, Crolles, 38926, France)
,
Gabette Laurence
(LETI, CEA; MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, Grenoble, 38054, France)
,
Besson Pascal
(CEA, LETI; MINATEC Campus, 17 rue des Martyrs, Grenoble, F38054, France)
資料名：
Solid State Phenomena
(Solid State Phenomena)
巻： 282 ページ： 121-125 発行年： 2018年
JST資料番号： T0583A ISSN： 1012-0394 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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