前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201802279938505729
整理番号：18A0932926
改良された電気化学的性能のためのSILAR合成NiO薄膜に及ぼす浸漬サイクルの影響【JST・京大機械翻訳】
Influence of dipping cycle on SILAR synthesized NiO thin film for improved electrochemical performance
Das Mahima Ranjan
(Department of Physics, The University of Burdwan, Burdwan, 713104, India)
,
Roy Atanu
(Department of Instrumentation Science, Jadavpur University, Kolkata, 700032, India)
,
Mpelane Siyasanga
(Department of Chemistry, Johannesburg University, Johannesburg, 2006, South Africa)
,
Mukherjee Ayan
(Department of Physics, RRS College, Mokama, Patna, 803302, India)
,
Mitra Partha
(Department of Physics, The University of Burdwan, Burdwan, 713104, India)
,
Das Sachindranath
(Department of Instrumentation Science, Jadavpur University, Kolkata, 700032, India)
資料名：
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻： 273 ページ： 105-114 発行年： 2018年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。