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文献
J-GLOBAL ID：201802281093114711
整理番号：18A0175028
水素化アモルファスシリコンの表面酸化起因真性応力の分子動力学解析
Molecular Dynamics Simulation for Intrinsic Stress Caused by Surface Oxidation on Hydrogenated Amorphous Silicon
田村陽平
(東京大学大学院 工学系研究科 機械工学専攻)
,
高本聡
(東京大学大学院 工学系研究科 機械工学専攻)
,
今泉俊介
(東京大学大学院 工学系研究科 機械工学専攻)
,
齋藤玲子
((株)東芝 生産技術センター)
,
伊藤祥代
((株)東芝 生産技術センター)
,
波田野明日可
(東京大学大学院 工学系研究科 機械工学専攻)
,
泉聡志
(東京大学大学院 工学系研究科 機械工学専攻)
資料名：
材料
(Journal of the Society of Materials Science, Japan)
巻： 66 号： 12 ページ： 950-956(J-STAGE) 発行年： 2017年
JST資料番号： F0385A ISSN： 0514-5163 CODEN： ZARYA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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