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文献
J-GLOBAL ID：201802283138429991
整理番号：18A0912222
紫外線照射とハイブリッドクラスタゲルを用いた機能性酸化物薄膜の直接パターニング法の開発とその薄膜トランジスタへの応用
Development of a direct patterning method for functional oxide thin films using ultraviolet irradiation and hybrid-cluster gels and its application to thin-film transistor fabrication
YOSHIMOTO Yuuki
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN)
,
LI Jinwang
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN)
,
SHIMODA Tatsuya
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol. (JAIST), Ishikawa, JPN)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 11 号： 4 ページ： 046501.1-046501.4 発行年： 2018年04月
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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