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文献
J-GLOBAL ID：201802283452113745
整理番号：18A0840577
XRD-非晶質TiO_2薄膜の室温堆積:温度の関数としてのデバイス性能の研究【JST・京大機械翻訳】
Room temperature deposition of XRD-amorphous TiO2 thin films: Investigation of device performance as a function of temperature
Grilli Maria Luisa
(ENEA-Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Energy Technology Department, Casaccia Research Centre, Via Anguillarese 301, 00123 Roma, Italy)
,
Yilmaz Mehmet
(Department of Science Teaching, Faculty of K. K. Education, Atatuerk University, 25240 Erzurum, Turkey)
,
Yilmaz Mehmet
(Advanced Materials Research Laboratory, Department of Nanoscience and Nanoengineering, Graduate School of Natural and Applied Sciences, Ataturk University, 25240 Erzurum, Turkey)
,
Aydogan Sakir
(Advanced Materials Research Laboratory, Department of Nanoscience and Nanoengineering, Graduate School of Natural and Applied Sciences, Ataturk University, 25240 Erzurum, Turkey)
,
Aydogan Sakir
(Department of Elect. & Elect. Engn., Faculty of Engineering, Ardahan University, 75000 Ardahan, Turkey)
,
Cirak Burcu Bozkurt
(Department of Alternative Energy Sources, Vocational High School, Erzincan University, 24000 Erzincan, Turkey)
資料名：
Ceramics International
(Ceramics International)
巻： 44 号： 10 ページ： 11582-11590 発行年： 2018年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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