文献
J-GLOBAL ID:201802283952910875
整理番号:18A1709428
WO_3薄膜の成長とエレクトロクロミック特性に及ぼす基板温度の影響【JST・京大機械翻訳】
Influence of substrate temperature on growth and Electrochromic properties of WO3 thin films
著者 (2件):
Madhuri K.V.
(Thin Film Laboratory, Department of S & H, VFSTR Deemed to be University, Vadlamudi, AP, 522213, India)
,
Bujji Babu M.
(Thin Film Laboratory, Department of S & H, VFSTR Deemed to be University, Vadlamudi, AP, 522213, India)
資料名:
Optik
(Optik)
巻:
174
ページ:
470-480
発行年:
2018年
JST資料番号:
D0251A
ISSN:
0030-4026
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)