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文献
J-GLOBAL ID：201802284251935004
整理番号：18A0729116
マイクロパイプ密度によるn型4H-SiC接触上のNi膜の電気的性能に及ぼす温度の影響【JST・京大機械翻訳】
Impact of temperature on electrical performance of Ni film on n-type 4H-SiC contacts in terms of micropipes density
Pham Hung V.
(School of Engineering, RMIT University, Melbourne, Australia)
,
Luong Stanley
(School of Engineering, RMIT University, Melbourne, Australia)
,
Holland Anthony S.
(School of Science & Technology, RMIT University,. Ho Chi Minh City, Vietnam)
,
Nguyen Huy L.
(School of Science & Technology, RMIT University,. Ho Chi Minh City, Vietnam)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018 号： SigTelCom ページ： 132-135 発行年： 2018年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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