文献
J-GLOBAL ID:201802285098832441
整理番号:18A0149922
反射率と小角散乱解析における一般化された歪対称界面確率分布【Powered by NICT】
Generalized skew-symmetric interfacial probability distribution in reflectivity and small-angle scattering analysis
著者 (3件):
Jiang Zhang
(X-ray Science Division, Advanced Photon Source, 9700 South Cass Avenue, Lemont, IL 60439, USA)
,
Chen Wei
(Materials Science Division and Institute for Molecular Engineering, Argonne National Laboratory, Lemont, IL 60439, USA)
,
Chen Wei
(Institute for Molecular Engineering, University of Chicago, Chicago, IL 60637, USA)
資料名:
Journal of Applied Crystallography
(Journal of Applied Crystallography)
巻:
50
号:
6
ページ:
1653-1663
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0631A
ISSN:
0021-8898
CODEN:
JACGAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)