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文献
J-GLOBAL ID:201802285298997930   整理番号:18A0822728

InGaAsトリゲートMOSFETにおける特定チャネル表面のトラップ分布を決定する方法【JST・京大機械翻訳】

A Method for Determining Trap Distributions of Specific Channel Surfaces in InGaAs Tri-Gate MOSFETs
著者 (5件):
Netsu Seiko
(Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan)
Hellenbrand Markus
(Department of Electrical and Information Technology, Lund University, Lund, Sweden)
Zota Cezar B.
(Department of Electrical and Information Technology, Lund University, Lund, Sweden)
Miyamoto Yasuyuki
(Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Tokyo, Japan)
Lind Erik
(Department of Electrical and Information Technology, Lund University, Lund, Sweden)

資料名:
IEEE Journal of the Electron Devices Society  (IEEE Journal of the Electron Devices Society)

巻:ページ: 408-412  発行年: 2018年 
JST資料番号: W2429A  ISSN: 2168-6734  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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