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J-GLOBAL ID:201802286905149089   整理番号:18A0718486

Cu_2O膜上のCl-誘起不動態破壊の電気化学的測定と原子論的シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical measurements and atomistic simulations of Cl--induced passivity breakdown on a Cu2O film
著者 (6件):
Wei Xin
(Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
Dong Chaofang
(Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
Yi Pan
(Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
Xu Aoni
(Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
Chen Zhanghua
(School of Mathematics and Physics, University of Science and Technology Beijing, Beijing, 100083, China)
Li Xiaogang
(Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Corrosion and Protection (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)

資料名:
Corrosion Science  (Corrosion Science)

巻: 136  ページ: 119-128  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0135B  ISSN: 0010-938X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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