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文献
J-GLOBAL ID：201802287147368956
整理番号：18A0507783
フェムト秒レーザ照射を用いたグラフェン酸化物のパターン化と還元【Powered by NICT】
Patterning and reduction of graphene oxide using femtosecond-laser irradiation
Kang SeungYeon
(School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA)
,
Evans Christopher C.
(School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA)
,
Shukla Shobha
(School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA)
,
Reshef Orad
(School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA)
,
Mazur Eric
(School of Engineering and Applied Sciences, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA)
資料名：
Optics & Laser Technology
(Optics & Laser Technology)
巻： 103 ページ： 340-345 発行年： 2018年
JST資料番号： D0245B ISSN： 0030-3992 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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