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文献
J-GLOBAL ID：201802288332180181
整理番号：18A0525950
純粋及びX修飾(X=Sc,Ti,Cr,Mn)MoS_2単分子層によるフェノールおよびヒドラジンの吸着【Powered by NICT】
Adsorption of phenol and hydrazine upon pristine and X-decorated (X = Sc, Ti, Cr and Mn) MoS2 monolayer
Wang Meiyan
(Institute of Atomic and Molecular Physics, Sichuan University, Chengdu 610065, China)
,
Wang Wei
(College of Physical Science and Technology, Sichuan University, Chengdu 610064, China)
,
Ji Min
(Institute of Atomic and Molecular Physics, Sichuan University, Chengdu 610065, China)
,
Cheng Xinlu
(Institute of Atomic and Molecular Physics, Sichuan University, Chengdu 610065, China)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 439 ページ： 350-363 発行年： 2018年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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