文献
J-GLOBAL ID:201802288915907668
整理番号:18A0969217
ナノリソグラフィーのための極端紫外線源の増強のためのレーザおよびプラズマ放射エネルギーのリサイクル【JST・京大機械翻訳】
Recycling of laser and plasma radiation energy for enhancement of extreme ultraviolet sources for nanolithography
著者 (4件):
Sizyuk V.
(Center for Materials under Extreme Environment (CMUXE), School of Nuclear Engineering Purdue University, West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
Sizyuk T.
(Center for Materials under Extreme Environment (CMUXE), School of Nuclear Engineering Purdue University, West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
Hassanein A.
(Center for Materials under Extreme Environment (CMUXE), School of Nuclear Engineering Purdue University, West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
Johnson K.
(KJ Innovation, 2502 Robertson Rd., Santa Clara, California 95051, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
123
号:
1
ページ:
013302-013302-11
発行年:
2018年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)