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文献
J-GLOBAL ID：201802289626153822
整理番号：18A1391578
Na_0.5Bi_0.5TiO_3薄膜の構造と電気的性質に及ぼすTiサイトにおけるドナーWとアクセプタNi共ドーピングの影響【JST・京大機械翻訳】
Effect of donor W and acceptor Ni codoping at Ti site on the structure and electrical properties of Na0.5Bi0.5TiO3 thin film
Lv P.P.
(Shandong Provincial Key Laboratory of Preparation and Measurement of Building Materials, University of Jinan, Jinan 250022, China)
,
Huang S.F.
(Shandong Provincial Key Laboratory of Preparation and Measurement of Building Materials, University of Jinan, Jinan 250022, China)
,
Cheng X.
(Shandong Provincial Key Laboratory of Preparation and Measurement of Building Materials, University of Jinan, Jinan 250022, China)
,
Yang C.H.
(School of Materials Science and Engineering, University of Jinan, Jinan 250022, China)
,
Yao Q.
(School of Materials Science and Engineering, University of Jinan, Jinan 250022, China)
資料名：
Ceramics International
(Ceramics International)
巻： 44 号： 13 ページ： 15236-15242 発行年： 2018年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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